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掃描電子顯微鏡

簡要描述:Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡
設(shè)備概述
型號: SEMVision CX 200
制造商: Applied Materials
應用領(lǐng)域: 半導體制造環(huán)境
主要特性
光學系統(tǒng): 0.2 NA 光學系統(tǒng)
高分辨率彩色相機
電動龍門
CO2激光準直光學設(shè)計
低噪聲冷卻CCD相機
可調(diào)LED光源
多測量模式

  • 產(chǎn)品型號:CX 200
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新日期:2024-09-23
  • 訪  問  量:445

詳細介紹

Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡

設(shè)備概述

型號: SEMVision CX 200

制造商: Applied Materials

應用領(lǐng)域: 半導體制造環(huán)境

主要特性

光學系統(tǒng): 0.2 NA 光學系統(tǒng)

高分辨率彩色相機

電動龍門

CO2激光準直光學設(shè)計

低噪聲冷卻CCD相機

可調(diào)LED光源

多測量模式

技術(shù)優(yōu)勢

改進的性能和產(chǎn)量監(jiān)控

支持先進集成電路設(shè)計的制造

檢測微觀尺度的缺陷和非均勻區(qū)域

配置選項

自動化掩模書寫功能

自動化檢查技術(shù)

檢測能力

單晶圓檢測速度: ≤90 s (在流水線模式下)

單晶圓缺陷吞吐量: ≤500 DPH (可選600 DPH)

單晶圓吞吐量: ≥8 晶圓/小時 (50個缺陷/晶圓)

清潔等級與API參數(shù)

清潔等級: Class 1 可接受外界條件影響的結(jié)霜對機組性能的影響



API參數(shù): +/-1.5um API (Automatic Process Control)



Applied Materials CX 200掃描電子顯微鏡是一款高性能、高精度的掩模和晶圓檢測設(shè)備,憑借其先進的光學系統(tǒng)、強大的圖像處理能力和高效的自動化功能,能夠滿足現(xiàn)代半導體生產(chǎn)中對缺陷檢測的嚴格要求。



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